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多晶硅還原爐體及鐘罩干式清掃裝置
多晶硅還原爐體及鐘罩干式清掃裝置使用時利用上下移動和旋轉(zhuǎn)機構(gòu)帶動高壓氣體噴吹以及特殊旋轉(zhuǎn)刷組合機構(gòu)近距離對反應釜表面進行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的。通過清洗旋轉(zhuǎn)調(diào)速機構(gòu)可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊除塵凈化器一次性進行除塵凈化。
多晶硅還原爐體及鐘罩干式清掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
■適用范圍
硅烷法多晶硅生產(chǎn)工藝。
用于還原車間反應釜中硅污染物附著力不大的工況條件下無污染干式清洗。
■工作原理
清洗時利用上下移動和旋轉(zhuǎn)機構(gòu)帶動高壓氣體噴吹以及特殊旋轉(zhuǎn)刷組合機構(gòu)近距離對反應釜表面進行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的。通過清洗旋轉(zhuǎn)調(diào)速機構(gòu)可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊除塵凈化器一次性進行除塵凈化。
■工藝流程
反應釜吊裝至清洗臺上—定位—連接、啟動凈化器—啟動旋轉(zhuǎn)、上下移動機構(gòu)—高壓氣體沿壁噴吹—旋轉(zhuǎn)刷至上而下接觸移動清掃—凈化氣體置換—反應釜吊起—檢查。
■設備組成及配置
主要由清洗平臺、氣體噴吹裝置、吸塵輸送管道、控制閥門、動力機構(gòu)、清洗機構(gòu)、各管道快速接頭、除塵凈化器、電氣控制系統(tǒng)等組成。
主要部件采用進口零部件，確保運行可靠穩(wěn)定、使用周期長。操作維修簡單。
■設備特點
1)裝置為移動單元式結(jié)構(gòu)。
2)凈化后的空氣可達到10萬級的凈化精度可完全在室內(nèi)排放。
3)采用全封閉干式的清洗方式確保對環(huán)境不出現(xiàn)二次污染。
4)電氣設計按隔爆的各項要求執(zhí)行、 設備設有靜電導出裝置。
5)控制方式可為全自動或手動控制。
6)運行總功率小，噪聲低。
